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氯化氫在合成設備中的形成流程要用到石墨降膜吸收器

返回  打印  發布時間:2015-8-3 點擊:7261

    氯化氫在合成設備中的形成流程.我們知道,在生產過程中的合成并不像在實驗室制取一樣那么簡單,要考慮到很多方面的因素,一個是使用的反應物的量,另一個是反應條件,還有就是最后生成物的量,以及生成物的提純。

    經過計量的氯氣和氫氣進行流量調節,調節氯氣和氫氣的比值為1:1.04-1.10(體積比),送入二合一氯化氫石墨合成爐進行反應,反應生成的熱量通過合成爐夾套中的循環水帶走,反應生成氯化氫氣體,通過3.6米長的石墨套管冷卻器,氯化氫氣體溫度降到165℃以下,送入石墨冷卻器用循環水冷卻,冷卻后氯化氫氣體溫度降至45℃左右,通入機前深冷氣經冷凍水進一步冷卻到-20℃~-30℃脫水。

    冷凍后的氯化氫氣體經除霧器脫除氯化氫氣體中的霧滴后,經機前加熱器加熱到15-25℃后,進入氯化氫壓縮機使氯化氫氣體加壓到0.3-0.4Mpa,后經緩沖罐(V-103)緩沖進入氯化氫深冷器,氯化氫氣體冷卻到-15~25℃,脫除氯化氫氣體中的酸水,在進入V-105緩沖脫除氯化氫氣體夾帶的霧滴,氯化氫氣體經加熱的(E-106)加熱后進入流化床供流化床反應使用。

    一般的,這個過程是連續進行的,所以每個過程都是經過嚴格的計算和設計的,保證合成的順利進行。

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